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リチウムドープ酸化タングステンエレクトロクロミック膜

リチウムドープ酸化タングステンエレクトロクロミックフィルムは、リチウム源として過塩素酸リチウムをリチウムドープすることができ、ゾル - ゲル法における過酸化タングステン - 過酸化タングステン法によって調(diào)製される。専門家らは、リチウムをドープした後の三酸化タングステン薄膜の特性の変化を研究し、ドーピング量について議論した。

詳細(xì)については、にアクセスしてください。
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html

リチウムドープ酸化タングステンエレクトロクロミックフィルム寫真

基板としてITO導(dǎo)電性ガラスを用い、平方抵抗は15Ωであり、2.5cm×2.5cmの小片に切斷した。フィルムのフィルム形成品質(zhì)を保証するために、基材はコーティング前に厳密に洗浄されるべきである。基板を無水エタノール、アセトン、および脫イオン水で20分間超音波洗浄し、最後に真空オーブンで乾燥し、使用のために密封した。

まず、タングステン粉末を秤量してビーカーに入れて過酸化水素と反応させ、密封して完全に反応させるために10?15℃の環(huán)境に置き、濾過して沈殿物を除去し、得られた黃緑色の濾液に無水エタノールと酢酸を加える。反応を行い、得られた前駆體をマグネチックスターラーに25分間入れた。最後に、過塩素酸リチウムとエチレングリコールメチルエーテルを添加し、さらに25分間マグネチックスターラーで攪拌してゾルを調(diào)製した。塗布はホモジナイザーで行い、1層目をメッキした後、室溫で自然乾燥させ、2層を繰り返しメッキした後、マッフル爐に入れて熱処理する。

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