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MoO3ドープWO3エレクトロクロミック薄膜

タングステン酸ゾルの安定性は、MoO3をドープしたWO3エレクトロクロミック薄膜のエレクトロクロミック特性に影響を與える。すなわち、安定なタングステン酸ゾルはエレクトロクロミック材料の前駆體スピンコーティング液として好適である。しかし、タングステン酸ゾル系の安定化過程を説明できる理論はありますか。

MoO3ドープWO3エレクトロクロミック薄膜

詳細(xì)については、

http://www.tungsten-powder.com/japanese/tungsten-oxide.html

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専門家によると、拡散二層モデルに基づくゾル安定化理論(DLVO理論)はタングステン酸ゾル系の安定化過程をよく説明できるという。DLVO理論によると、荷電コロイド粒子が互いに近づくと、拡散層が重なり、靜電反発を生じる。同時(shí)に、コロイド粒子中のすべての分子引力の総和である長距離ファンデルワールス力の吸引力もある。コロイド粒子間の反発ポテンシャルエネルギーと吸引ポテンシャルエネルギーはシステムの総ポテンシャルエネルギーを決定する。反発反発エネルギーが吸引ポテンシャルエネルギーより大きく、ブラウン運(yùn)動による粒子の付著を防止するのに十分な場合、コロイドは比較的安定した狀態(tài)にある。逆に、吸入ポテンシャルが反発ポテンシャルよりも大きい場合、粒子は互いに衝突して凝結(jié)を引き起こす。このとき、反発ポテンシャルエネルギーと吸引ポテンシャルエネルギーを調(diào)整して、コロイドの安定性を変更することができます。ポテンシャルエネルギーは吸著層の影響を受ける。吸著層の形成が吸入ポテンシャルエネルギーまたは反発ポテンシャルエネルギーを低下させるか、あるいは両者が同時(shí)に低下すると、システムは安定する。

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