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オフィスビルの斷熱膜におけるセシウムタングステン青銅ナノ粉末の使用

オフィスビルの斷熱膜を製造するために用いられたセシウムタングステン青銅ナノ粉末は、強(qiáng)い近赤外光吸収と高い可視光透過(guò)率を示した。近年、専門(mén)家たちはCsxWO 3ナノ結(jié)晶が強(qiáng)い近赤外光吸収を示し、高モル消衰係數(shù)を有することを発見(jiàn)し、そのため近赤外光勵(lì)起時(shí)に大量の熱を発生する。

セシウムタングステン青銅ナノ粉末,オフィスビル斷熱膜

詳細(xì)については、次のサイトを參照してください。

http://cesium-tungsten-bronze.com/japanese/index.html

セシウムタングステン青銅ナノ粉末,オフィスビル斷熱膜

現(xiàn)在の研究結(jié)果により、CsxWO 3ナノロッドはPTA癌治療において広い応用の將來(lái)性を持っていることが明らかになった。PTAは光熱溶融治療の略稱(chēng)である。2種類(lèi)のヒト癌細(xì)胞系のPTA研究により、CsxWO 3ナノロッドは高溫誘導(dǎo)リソソーム破壊、細(xì)胞骨格蛋白質(zhì)分解、DNA損傷及びその後の細(xì)胞壊死又はアポトーシスにより効果的に細(xì)胞死を引き起こすことができることが明らかになった。一部の専門(mén)家はまた、健康細(xì)胞が照射されていない領(lǐng)域から死細(xì)胞周期に移行することは、腫瘍組織の光破壊後の組織再建と創(chuàng)傷癒合にとって極めて重要であることを確認(rèn)した。

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