セシウムタングステン青銅ナノ粉末は主に研究用斷熱膜の製造に用いられる。近赤外遮蔽性能と透明斷熱性能を向上させるために、一部の専門家はCsxWO3ナノロッドにPtをドープした。専門家たちは安価なタングステン酸ナトリウムと硫酸セシウムを原料として、近赤外遮蔽と透明斷熱性能を改善したPtドープCsxWO3ナノロッドを溶媒熱法で合成した。専門家たちはPtをドープしたCsxWO3製品の結(jié)晶構(gòu)造、形態(tài)、透明斷熱性能に対するPtドープの影響を研究した。
詳細(xì)については、次のサイトを參照してください。
http://cesium-tungsten-bronze.com/japanese/index.html
専門家たちは、Pt觸媒が酸素空格子點とW5+の生成を促進する上で重要な役割を果たし、PtドープCsxWO3の近赤外遮蔽性能を大幅に向上させることができることを発見した。さらに、PtドープCsxWO3ナノロッドは、追加の還元熱処理を必要とせずに優(yōu)れた近赤外遮蔽および透明斷熱性能を?qū)g現(xiàn)することができる。特に、Pt/Wモル比が0.01（n?=?0.01）、直徑10?30のPtドープCsxWO3生成物?nm、長さ20～80?nmは最適な可視光透過率と近赤外遮蔽能力を持ち、最大可視光透過率と近赤外遮蔽率はそれぞれ72%と92%である。PtドープCsxWO3ナノ粒子は、追加の熱処理を必要としない場合に優(yōu)れた透明斷熱性能を有し、建築や自動車窓ガラスにおける省エネ膜の応用により適している。
