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LED專利“硝煙不斷” 我國企業(yè)如何避免“地雷”?
作者:hua    文章來源:網(wǎng)站轉(zhuǎn)載    更新時間:2012-11-1 8:42:11

LED專利“硝煙不斷” 我國企業(yè)如何避免“地雷”?


LED產(chǎn)業(yè)專利數(shù)量巨大,涉及的技術(shù)領(lǐng)域多,外國大企業(yè)布局較早,實力雄厚,通過專利交叉授權(quán)已結(jié)成同盟,對我國LED企業(yè)形成專利重壓。

LED作為光源被譽為人類照明史上的第三次革命,具有高效節(jié)能、綠色環(huán)保等優(yōu)點,已在全球范圍掀起發(fā)展研究的熱浪。世界各國在研發(fā)技術(shù)、開拓市場的同時,也積極在專利布局上跑馬圈地,LED領(lǐng)域的專利糾紛此起彼伏硝煙不斷。

目前LED領(lǐng)域全球?qū)@暾埞灿?/SPAN>12萬余項,早在上世紀60年代就已出現(xiàn)LED相關(guān)專利,上世紀70年代后期專利申請量開始平緩增長(年均申請量突破100),至2000年專利申請量開始迅速增長,而近幾年專利申請量更是劇增(年均兩萬項)。

從申請區(qū)域來看,日本的專利申請量最多,其次為美國和中國,各主要國家和地區(qū)LED領(lǐng)域的專利申請都已突破1萬項。LED產(chǎn)業(yè)巨頭很多屬于日本、美國公司,一般情況下公司會首先將新技術(shù)在本國申請專利,所以日本、美國LED領(lǐng)域的專利申請量遙遙領(lǐng)先。在LED領(lǐng)域中國專利申請量位列第三,說明LED產(chǎn)業(yè)各巨頭都很重視我國市場的爭奪,提早在我國進行專利布局,為其他企業(yè)進入我國市場設置專利壁壘。

專利申請約40%集中在封裝

封裝、應用領(lǐng)域?qū)@暾埩枯^多的原因是企業(yè)數(shù)量較多、技術(shù)細節(jié)較多。

從產(chǎn)業(yè)鏈分布來看,LED領(lǐng)域?qū)@暾埣s40%集中在封裝,其次為應用(26%)和外延(17%),襯底和白光的專利最少。封裝、應用領(lǐng)域?qū)@暾埩枯^多的原因可能是從事封裝、應用領(lǐng)域中下游開發(fā)的企業(yè)數(shù)量較多,涉及的技術(shù)細節(jié)較多。專利申請多集中在封裝和應用領(lǐng)域,也表明LED技術(shù)相對比較成熟,開始進入應用階段。襯底、白光領(lǐng)域的專利量雖然相對較少,但大多為LED產(chǎn)業(yè)的基礎核心專利,比較重要。

襯底領(lǐng)域的專利25%集中在藍寶石,其次為砷化鎵(17%)、硅(16%)、氮化鎵(10%)、碳化硅(7%)等,這和目前全球LED市場GaN生長主要采用藍寶石襯底的產(chǎn)業(yè)狀況一致,無論從制造技術(shù)成熟度、穩(wěn)定性及成本方面,藍寶石襯底都是主流選擇。目前日本日亞壟斷了大部分藍寶石襯底專利技術(shù),另一方面硅襯底、碳化硅襯底各自有其特定的技術(shù)和市場優(yōu)勢,也會在特定領(lǐng)域發(fā)揮效能,占據(jù)自己的一席之地。

外延領(lǐng)域的專利從有源層材料看,86%集中在III-V族,以氮化鎵為代表的III-V族化合物半導體材料制成的LED器件效率高、壽命長、成本低,被公認為是LED器件的首選材料,LED外延領(lǐng)域?qū)@暾埩恳卜从沉诉@一技術(shù)現(xiàn)狀。外延領(lǐng)域?qū)@麖墓δ軐觼砜?/SPAN>75%集中在n型層、p型層和有源層,其次為覆蓋層和緩沖層(16%),在電流擴展層和歐姆接觸層等技術(shù)分支申請量較少。n型層、p型層和有源層是LED器件的基本架構(gòu),因此專利申請量最多。外延緩沖層技術(shù)能夠有效解決異質(zhì)襯底上生長氮化鎵外延時晶格失配和熱失配這兩大問題,是LED的傳統(tǒng)主流技術(shù),出現(xiàn)較早,專利申請量相對較多。

芯片領(lǐng)域的專利39%集中在電極設計技術(shù),其次為反射膜技術(shù)(16%)、微結(jié)構(gòu)技術(shù)(12%)、芯片外形技術(shù)(11%)、襯底鍵合剝離技術(shù)(11%),在劃片、增透膜技術(shù)、鈍化技術(shù)等方面申請較少。LED優(yōu)點之一為壽命長,而電極設計(形狀、位置、制備等)LED穩(wěn)定性有著很大影響,對LED實用化十分重要,是芯片領(lǐng)域?qū)@暾埩孔疃嗟募夹g(shù)分支。

封裝領(lǐng)域的專利63%集中在基板和封裝體領(lǐng)域,其次為散熱(15%)、電極互連(13%)和熒光體(7%)。LED封裝技術(shù)的發(fā)展趨勢是高發(fā)光效率、高可靠性和薄型化,其中散熱技術(shù)是重中之重。如果不解決散熱問題,造成LED器件工作溫度不斷上升,會直接導致LED器件發(fā)光亮度減弱,工作壽命衰減,因此該技術(shù)分支的專利值得我國企業(yè)多多關(guān)注。

專利訴訟阻止后進入者

外國大企業(yè)通過專利交叉授權(quán)結(jié)成同盟,對我國LED企業(yè)形成專利重壓。

從競爭對手來看,LED全球?qū)@暾埩孔疃嗟那笆还疽来螢樗上隆⑾钠、三星、東芝、佳能、索尼、京瓷、羅姆、豐田合成和日亞。專利申請量位列第九、第十的豐田合成和日亞,雖然其專利量沒有位列前茅,但均為業(yè)界公認的、掌握LED核心芯片制造技術(shù)的重點公司。列于前三位的松下、夏普和三星都是重要的電子和顯示產(chǎn)品廠商,可見LED的應用技術(shù)正在迅速發(fā)展。而日本的照明市場(包括LED照明)是由松下和東芝領(lǐng)銜的,在LED照明方面夏普、日立、三菱等公司也占有部分市場。

如前所述,隨著LED市場的迅猛發(fā)展,各LED企業(yè)為爭奪市場份額,在技術(shù)戰(zhàn)、市場戰(zhàn)的同時開辟了專利戰(zhàn)這一新的戰(zhàn)場。LED產(chǎn)業(yè)專利訴訟頻發(fā),并且訴訟關(guān)系錯綜復雜。不過,LED巨頭間的專利訴訟多數(shù)都以和解、簽訂專利交叉授權(quán)的形式告終。

雖然全球五大LED巨頭之間基本形成了專利交叉網(wǎng),但對”--對待新興LED企業(yè),仍然采取以專利訴訟阻止產(chǎn)業(yè)后進入者發(fā)展的策略:20122月日本豐田合成對中國臺灣LED芯片廠商璨圓光電提起專利侵權(quán)訴訟,指控被告侵犯其擁有的GaN LED芯片專利,并對璨圓光電制造的多種LED產(chǎn)品請求禁止令。日亞多次對億光及其零售商發(fā)起專利侵權(quán)。20116月歐司朗在美國和德國起訴三星和LG侵犯其LED專利技術(shù)。

LED產(chǎn)業(yè)專利數(shù)量巨大,涉及的技術(shù)領(lǐng)域多,外國大企業(yè)布局較早,通過專利交叉授權(quán)已結(jié)成同盟,對我國LED企業(yè)形成專利重壓。我國LED企業(yè)應盡力避免踩到專利地雷,一方面加強技術(shù)研發(fā),對競爭對手的核心專利進行改進、優(yōu)化,在一些專利布局相對不太密集的技術(shù)領(lǐng)域如封裝領(lǐng)域的散熱、靜電保護等尋找突破口,通過擁有自己獨特的專利技術(shù)謀得與LED產(chǎn)業(yè)巨頭談判的資本,進而避免被訴侵權(quán)的風險;另一方面,靈活制定專利策略,積極爭取基礎專利授權(quán)和技術(shù)轉(zhuǎn)讓,化干戈為玉帛,逐步達到占有較大市場份額的目的。

 

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