WO3，作為一種半導體光催化材料，可以用于制備光催化劑，進而用于有機污染物的降解等領域。專家表示，光催化技術的核心是光催化劑，半導體光催化是利用光催化劑在光照條件下生成一系列具有強氧化能力的空穴和自由基，進一步發(fā)生氧化分解反應使有機物污染物降解為CO2和H2O等無機物，從而達到對有機物的徹底氧化分解。
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WO3的光催化性能主要取決于兩個因素：光生電子-空穴對的遷移率和復合率。半導體的價帶和導帶的位置決定了光生電子-空穴對的遷移率，而半導體表面的官能團和缺陷對光生電子-空穴對的復合率會產(chǎn)生重要的影響。
