SiO2納米晶-黃色氧化鎢復(fù)合薄膜以無(wú)定形氧化鎢作為基體，SiO2納米晶均勻分布在無(wú)定形氧化鎢中。有專家通過(guò)下述步驟制得在633nm處的光譜調(diào)制幅度為46％，著色時(shí)間為8s，褪色時(shí)間為4.3s的復(fù)合薄膜。
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SiO2納米晶-黃色氧化鎢復(fù)合薄膜的制備
步驟一：將0.3g SiO2納米晶粉末超聲分散溶于6mL二甲基甲酰胺，形成TiO2納米晶的二甲基甲酰胺溶液。
步驟二：將1.5g偏鎢酸銨加入步驟一所得SiO2納米晶的二甲基甲酰胺溶液中，超聲處理得到復(fù)合溶液。
步驟三：步驟二所得復(fù)合溶液中依次加入2mL乙醇，超聲處理。
步驟四：利用旋涂?jī)x將步驟三所得溶液旋涂在清洗后的ITO基板上。其中，旋涂轉(zhuǎn)速為500r/min，勻膠時(shí)間5s；接著轉(zhuǎn)速1000r/min，勻膠時(shí)間20s。
步驟五：將步驟四制得的濕膜先在空氣氣氛中熱處理，熱處理溫度為350℃，保溫時(shí)間為60min，制得SiO2納米晶-黃色氧化鎢復(fù)合薄膜。
