WO3是一種重要的無毒的且禁帶寬度窄（2.4-2.8eV）的半導(dǎo)體材料，可作為催化劑應(yīng)用于光催化反應(yīng)中對(duì)污水中的有機(jī)物進(jìn)行催化降解，因而WO3-ZnO復(fù)合薄膜的制備已成為當(dāng)前的一大研究熱點(diǎn)，而且，其光催化性能備受關(guān)注。
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有專家采用溶膠-凝膠法在鋁箔上制備WO3-ZnO復(fù)合薄膜，并用活性炭對(duì)其改性，以甲基橙水溶液模擬有機(jī)污染物，研究了WO3-ZnO薄膜的光催化降解性能。結(jié)果表明：白熾燈照射2h、WO3質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2.5%時(shí)，WO3-ZnO-鋁箔對(duì)甲基橙的降解率達(dá)到78.54%；紫外光照射下降解率達(dá)到99.89%。當(dāng)活性炭摻雜量為10g/L時(shí)，制得的WO3-ZnO復(fù)合薄膜均勻一致且光催化性能良好，可見光照射下甲基橙降解率達(dá)到85.71%。
