氮化碳半導(dǎo)體因有環(huán)保、無(wú)毒、穩(wěn)定性良好等特點(diǎn)而成為近些年來(lái)備受可見(jiàn)光催化材料。但是單純氮化碳的比表面積較小，禁帶寬度較大，光生電子-空穴對(duì)的復(fù)合率較高，進(jìn)而不能有效利用太陽(yáng)光，這大大限制了其光催化效率的提高和在光催化領(lǐng)域的發(fā)展。為了進(jìn)一步提高氮化碳的光催化活性，研究者便使用了氧空位氧化鎢對(duì)它進(jìn)行改性，以有效增多產(chǎn)品的活性位點(diǎn)。下面，我們一起來(lái)了解一下氧空位氧化鎢復(fù)合光催化劑的生產(chǎn)方法。
一種氧空位氧化鎢/氮化碳（WO2.72/C3N4）復(fù)合光催化劑的生產(chǎn)方法的具體步驟：
（1）將氮化碳粉末置于鹽酸溶液中進(jìn)行質(zhì)子化處理，持續(xù)攪拌后過(guò)濾、洗滌、烘干；
（2）將質(zhì)子化處理的氮化碳粉末分散于無(wú)水乙醇或水中進(jìn)行超聲處理，然后加入六氯化鎢進(jìn)行水熱反應(yīng)；
（3）收集水熱反應(yīng)的產(chǎn)物并水洗、烘干、研磨，即得所述氧空位氧化鎢/氮化碳復(fù)合光催化劑。
該制造方法的注意事項(xiàng)如下：1）步驟（1）所述鹽酸溶液的濃度為5～8mol/L；持續(xù)攪拌時(shí)間為24小時(shí)以上。2）步驟（2）中所述水熱反應(yīng)的溫度為180～220℃，反應(yīng)時(shí)間為10～15h；超聲處理時(shí)間為10～60min；所述氮化碳和六氯化鎢的質(zhì)量比為1：0.398～3.965；3）步驟（3）中所述烘干為在真空干燥箱中于60℃條件下烘5～12小時(shí)直至干燥。
該制造方法的優(yōu)勢(shì)如下：工藝簡(jiǎn)單，可重復(fù)率高，對(duì)實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備沒(méi)有太高的要求。另外，氧空位氧化鎢/氮化碳復(fù)合光催化劑具有較大的禁帶寬度，對(duì)太陽(yáng)光有較寬的響應(yīng)范圍。
