鉭摻雜納米氧化鎢薄膜可以通過(guò)雙靶共濺射方法，采用金屬鎢靶和陶瓷五氧化二鉭靶（Ta2O5）作為靶材制備得到。具體地，如何制備得到Ta摻雜納米氧化鎢薄膜？
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http://www.tungsten-powder.com/chinese/tungsten_oxide.html
鉭摻雜納米氧化鎢薄膜的制備
用直流電源濺射金屬W靶，用射頻電源濺射Ta2O5靶。襯底為氧化銦錫導(dǎo)電玻璃（方塊電阻10-15Ω，Tvis＞80%）和硅片。通入氣體前，將沉積室預(yù)抽真空至3x10-4PA以下，然后以高純氬氣作為工作氣體，高純氧氣作為反應(yīng)氣體，在室溫下預(yù)濺射20min，待實(shí)驗(yàn)參數(shù)基本穩(wěn)定后打開(kāi)擋板進(jìn)行濺射鍍膜。濺射時(shí)通過(guò)調(diào)節(jié)氣體流量、濺射功率和濺射時(shí)間等沉積參數(shù)來(lái)制備不同含量Ta摻雜的氧化鎢薄膜，并確保薄膜厚度的一致。
