納米WO3薄膜可以采用濺射鍍膜法制備得到。例如，有專家在未拋光的Al2O3基片上，采用直流反應(yīng)磁控濺射法制備了納米級三氧化鎢薄膜。專家表示，磁控濺射是常用的濺射鍍膜法。那么，你們可是知道磁控濺射的原理是？
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磁控濺射原理的原理是：利用高能粒子束轟擊靶材表面，使靶材表面的原子擺脫原子間的束縛逸出；采用一定方向一定強度的磁場可控制逸出的原子或二次電子，使其以輪擺線的形式規(guī)則運動；通過將原子或二次電子束縛在靶材表面，可使輝光維持而進行濺射。
