摻雜WO3薄膜可以采用電子束蒸鍍法制備得到。其中,電子束蒸鍍法是蒸發(fā)鍍膜法中的一種,而后者又屬于物理氣相沉積法中的一種。有專家以WO3和CNT的混合粉末為原料,采用電子束蒸鍍法在Al2O3基板上制得NWCNT摻雜WO3薄膜。
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專家表示,物理氣相沉積是實(shí)驗(yàn)室中較為廣泛采用的制膜方法,與其他方法相比,其合成薄膜的速度較快,薄膜純度較高,表面均勻性較好,且可將一些高熔點(diǎn)反應(yīng)物用于摻雜WO3薄膜的制備,但反應(yīng)儀器成本較高,因而不適用于規(guī)?;苽浔∧げ牧?。專家還講到,電子束蒸鍍的原理是利用高能電子束對靶材表面進(jìn)行轟擊,使材料表面產(chǎn)生極高的溫度,從而使材料由固態(tài)直接升華到氣態(tài),并沉積到工件表面形成薄膜。