三氧化鎢緩沖層

盡管有科學實驗證明了OLED器件通過加入三氧化鎢緩沖層確實有效提高了發(fā)光亮度。但是對于功率效率而言IWO/WO3-OLED器件卻并沒有因為三氧化鎢的插入而得到有效改善。發(fā)光效率上,IWO/WO3-OLED器件明顯不如IWO-OLED。

經(jīng)過科學分析可知,OLED器件性能與緩沖層(buffer layer)厚度均勻性以及表面平整性有著密切的聯(lián)系。一般而言，利用濺射法所制造的三氧化鎢緩沖層，易受工藝控制因素不良而導(dǎo)致表面不平整，進而產(chǎn)生表面的尖端物質(zhì)或突起物。另外高溫鍛燒及再結(jié)晶的過程亦會產(chǎn)生表面突起層。這些不平整層的細粒之間所形成的路徑會提供空穴直接射向陰極的機會，而這些錯綜復(fù)雜的路徑會使漏電流增加。

研究結(jié)果表明,三氧化鎢功函數(shù)修飾層有助于改善OLED器件性能。但是,緩沖層的最佳厚度、均勻性、以及摸索其他電學和光學性能的改善,都值得進一步研究和關(guān)注。